IV族混晶半導体薄膜結晶のヘテロエピタキシャル成長に関する研究
| dc.contributor.author | Akane, Toshimitsu / 茜, 俊光 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-05-09T06:57:17Z | |
| dc.date.available | 2014-05-09T06:57:17Z | |
| dc.date.issued | 1998-03-23 | en_US |
| dc.description | 博士 (工学), 1997年度, 電気工学専攻 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/1267 | |
| dc.language | jpn | en_US |
| dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | en_US |
| dc.title | IV族混晶半導体薄膜結晶のヘテロエピタキシャル成長に関する研究 | en_US |
| dc.title.alternative | Studies on heteroepitaxial growth of group IV alloy crystals | en_US |
| dc.type | 学位論文 | en_US |