シリコン基板上の熱酸化膜中におけるシリコン及びボロンの増速拡散

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Date

2005-03-23

Authors

Fukatsu, Shigeto / 深津, 茂人

Publisher

慶應義塾大学理工学研究科

Description

博士（工学）, 2004, 基礎理工学専攻

Keywords

拡散, 熱酸化膜, 界面, diffusion, thermal oxides, interface

URI

http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/1920

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