CVDおよびMBE法によるSiエピタキシャル成長に関する研究
| dc.contributor.author | Tabe, Michiharu / 田部, 道晴 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-05-09T06:56:41Z | |
| dc.date.available | 2014-05-09T06:56:41Z | |
| dc.date.issued | 1984-03-16 | en_US |
| dc.description | 博士 (工学), 1983年度 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/604 | |
| dc.language | jpn | en_US |
| dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | en_US |
| dc.title | CVDおよびMBE法によるSiエピタキシャル成長に関する研究 | en_US |
| dc.type | 学位論文 | en_US |