LSI微細加工用2周波CCPエッチングとRFマグネトロンスパッタリングプロセスの計算機支援デザイン

dc.contributor.authorYagisawa, Takashi / 八木澤, 卓en_US
dc.date.accessioned2014-05-09T07:07:42Z
dc.date.available2014-05-09T07:07:42Z
dc.date.issued2006-03-23en_US
dc.description博士(工学), 2005, 総合デザイン工学専攻en_US
dc.identifier.urihttp://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/2076
dc.languagejpnen_US
dc.publisher慶應義塾大学理工学研究科en_US
dc.titleLSI微細加工用2周波CCPエッチングとRFマグネトロンスパッタリングプロセスの計算機支援デザインen_US
dc.title.alternativeLSI bisai kakoyo 2shuha CCP etchingu to RF magunetoron supattaringu purosesu no keisanki shien dezainen_US
dc.type学位論文en_US

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