表面チャージング・エッチング・デポジション競争過程下のSiO2および有機低誘電率材料のトレンチ形状発展モデリング
| dc.contributor.author | Shimada, Takashi / 島田, 卓 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-05-09T07:07:57Z | |
| dc.date.available | 2014-05-09T07:07:57Z | |
| dc.date.issued | 2006-09-21 | en_US |
| dc.description | 博士（工学）, 2006, 総合デザイン工学専攻 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://iroha.scitech.lib.keio.ac.jp:8080/sigma/handle/10721/2164 | |
| dc.language | jpn | en_US |
| dc.publisher | 慶應義塾大学理工学研究科 | en_US |
| dc.title | 表面チャージング・エッチング・デポジション競争過程下のSiO2および有機低誘電率材料のトレンチ形状発展モデリング | en_US |
| dc.title.alternative | Hyomen chajingu etchingu depojishon kyoso kateika no SiO2 oyobi yuki teiyudenritsu zairyo no torenchi keijo hatten moderingu | en_US |
| dc.type | 学位論文 | en_US |