PVD法により作製した硬質Ti系薄膜におけるSi添加効果

dc.contributor.author	Ichijou, Kouji / 一条, 光司
dc.date.accessioned	2014-05-16T01:07:54Z
dc.date.available	2014-05-16T01:07:54Z
dc.date.issued	2007-03-23
dc.description	修士（工学）, 2006, 基礎理工学専攻
dc.identifier.uri	/sigma_local/handle/10721/3033
dc.language	ja
dc.publisher	慶應義塾大学理工学研究科
dc.subject	arc ion plating method	en
dc.subject	thin films	en
dc.subject	(Ti,Al,Si)N	en
dc.subject	microstructural analysis	en
dc.subject	アークイオンプレーティング	ja
dc.subject	薄膜	ja
dc.subject	(Ti,Al,Si)N	ja
dc.subject	構造解析	ja
dc.title	PVD法により作製した硬質Ti系薄膜におけるSi添加効果	en_US
dc.title.alternative	Effects of Si Incorporation into Titanium-based Films Deposited by PVD Method	en_US
dc.type	学位論文

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