PVD法により作製した硬質Ti系薄膜におけるSi添加効果
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Date
2007-03-23
Authors
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Publisher
慶應義塾大学理工学研究科
Abstract
Description
修士（工学）, 2006, 基礎理工学専攻
Keywords
arc ion plating method, thin films, (Ti,Al,Si)N, microstructural analysis, アークイオンプレーティング, 薄膜, (Ti,Al,Si)N, 構造解析